光罩CD 量測
詳細介紹
在此製程階段中,光罩CD 量測,可測量晶片內精密如次微米電路之微距,更能夠確保製程之正確性。採用sony uv增強晶片,2.4um小圖元高解析,150x 物鏡,可以獲得最小尺寸,提高準確穩定度,以此重要製成確認光罩需保持在最良好的狀態,便能夠呈現完整且完美的電路圖像;若不完整的圖像會被複製到晶圓上,則會造成相當大的成本損失。
因此,當晶圓在每個製程進行時, 圖案晶圓檢測系統便可用來檢測晶圓上是否有任何缺失或瑕疵,如微塵粒子、斷線等問題。 此外,對已印有電路圖案的圖案晶圓成品而言,則可以透過此機台來做深次微米範圍之瑕疵檢測。